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LTHELECTRONICS ProcessProbeTM - LTHELECTRONICS工业过程溶解氧传感器ProcessProbeTM

LTHELECTRONICS ProcessProbeTM - LTHELECTRONICS工业过程溶解氧传感器ProcessProbeTM

品牌:LTHELECTRONICS 型号:ProcessProbeTM LTHELECTRONICS ProcessProbeTM - LTHELECTRONICS工业过程溶解氧传感器ProcessProbeTM 产品介绍 ProcessProbeTM溶解氧传感器的结构提供了一个测量系统,非常适合用于可变流量条件或延长持续时间的应用。主体由CPVC加工而成,带有一体式0.75"NPT外螺纹,便于安装。它还具有用于自动温度补偿的内置热敏电阻。双层膜采用不锈钢网加固。这种···


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  • 产品介绍

品牌:LTHELECTRONICS

型号:ProcessProbeTM

LTHELECTRONICS ProcessProbeTM - LTHELECTRONICS工业过程溶解氧传感器ProcessProbeTM

LTHELECTRONICS ProcessProbeTM - LTHELECTRONICS工业过程溶解氧传感器ProcessProbeTM 产品介绍

ProcessProbeTM溶解氧传感器的结构提供了一个测量系统,非常适合用于可变流量条件或延长持续时间的应用。主体由CPVC加工而成,带有一体式0.75"NPT外螺纹,便于安装。它还具有用于自动温度补偿的内置热敏电阻。双层膜采用不锈钢网加固。这种网有助于膜抵抗内部颗粒物的损坏工艺流,延长传感器的使用寿命。该传感器由位于玻璃棒上方的银阳极管组成,铂阴极熔合在玻璃棒上。玻璃棒的前端研磨成准确的半球形曲线,支撑膜并确保在膜和阴极之间保持良好压力。对于大多数氧传感器,停滞溶液中的输出低于搅拌溶液中的输出。这是由于传感器消耗氧气并在阴极附近产生耗尽层。在停滞的解决方案中,如果样本的更新速度不快于传感器消耗氧气的速度,则输出结果会降低。具有大阴极或薄且高渗透性膜的传感器会发生高度的流量依赖性。ProcessProbeTM的膜结构由薄的PTFE层和相对较厚的钢网增强硅层组成。硅层对氧气具有高度渗透性,并提供氧气储存器。因此,双层厚的PTFE/硅膜可有效缓冲由流量变化引起的干扰。这提供了一个坚固的膜组件,几乎不依赖于流量。ProcessProbeTMDO传感器设计用于任何工艺流或废水应用。膜组件的模块化设计使定期维护简单快捷。

LTHELECTRONICS ProcessProbeTM - LTHELECTRONICS工业过程溶解氧传感器ProcessProbeTM 性能特点

坚固的增强膜

简单的滤芯更换膜

平面无障碍测量

拥有成本低

久经考验的性能

LTHELECTRONICS ProcessProbeTM - LTHELECTRONICS工业过程溶解氧传感器ProcessProbeTM 技术参数

LTHELECTRONICS ProcessProbeTM - LTHELECTRONICS工业过程溶解氧传感器ProcessProbeTM