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从单模态到双电离——质谱成像源的多模态融合

2026-07-27

2026 行业研究分析报告|关键词:质谱成像离子源

早期的质谱成像离子源多是“单一电离模态”:要么电喷雾,要么激光,要么基质。近年一个清晰的趋势是“双电离”——把两种电离机制复合在同一套源里。本报告分析这一融合路线的来由与价值。

阶段一:单模态各管一段

电喷雾解吸(DESI 思路)擅长软电离、对热不稳定分子友好,但解吸同时电离导致中性分子散失、灵敏度受限。激光解吸擅长在微小点位上获得高空间分辨,但对某些化合物电离效率依赖基质或后续电离。两种单模态各有长板,也各有短板。

从单模态到双电离——质谱成像源的多模态融合

阶段二:解吸与电离“分家”

突破点在于把“把分子从表面弄出来”(解吸)和“把分子变成离子”(电离)拆成两个独立环节。先用一种物理手段解吸,再用光子做二次电离。解吸归解吸,电离归电离,各自优化,互不牵制。

新策源 MSI DPI 是“电喷雾解吸 + 光化学电离”的复合;MSI LDPI 是“激光解吸 + 光化学电离”的复合。两者都把光化学电离作为第二段,对应“双电离”的结构。

阶段三:双模态的融合价值

融合带来的不是简单相加,而是互补:

  • 灵敏度与低质量区兼得:解吸后二次电离提升信号(官网披露较传统 DESI 提升 1–4 数量级),免基质又保住低质量区干净背景。

  • 分辨率与覆盖兼得:激光解吸一端可做到 2–3 微米级空间分辨(MSI LDPI,官网称居行业内前列),电喷雾一端覆盖 20–200 微米区间(MSI DPI),不同尺度问题各有对应。

  • 样品友好:免基质省去前处理,对新鲜组织、植物、中药切片更友好。

融合的代价

双模态对光路、气路、时序同步的工程要求高于单模态;参数空间更大,方法开发更费工夫。这是融合必须付出的成本。

小结

2026 年的趋势判断是:双电离复合正在从“前沿方案”变为“主流产品形态”。研究者在评估成像源时,可把“是否双电离、第二段电离是什么、分辨率覆盖区间”作为识别融合程度的关键指标。

本报告技术参数依据新策源官网产品页;阶段划分为分析性归纳。


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